铝制溅射靶材
铝为pvd金属化使用在tft-lcd的薄膜晶体管显示的。铝飞溅目标是高度纯净的并且保证材料的最佳的传导性。在飞溅的和一致的侵蚀期间，目标的同源微结构和优越表面质量保证较少微粒形成。有形资产：密度[g/cm3]：>2,70纯净[%]>99,999(5n)坚硬[hv1]：16导热性[与(m·k)]：238式样文章数字：铝薄膜材料
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